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Gas elettronici Hexafluoroethane CAS 2551-62-4 del refrigerante R116

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Gas elettronici Hexafluoroethane CAS 2551-62-4 del refrigerante R116

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Grande immagine :  Gas elettronici Hexafluoroethane CAS 2551-62-4 del refrigerante R116

Dettagli:

Luogo di origine: La Cina
Marca: newradar
Certificazione: ISO/DOT/GB
Numero di modello: N / A

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 1000 chilogrammi
Prezzo: negotiation
Imballaggi particolari: imballaggio standard dell'esportazione: ogni cilindro da proteggere da due poli-reti, stanti sul pal
Tempi di consegna: 15-25 giorni lavorativi dopo hanno ricevuto il vostro pagamento
Termini di pagamento: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione: 3,00 tonnellate al mese
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Descrizione di prodotto dettagliata
No. del EINECS:: 200-939-8 CAS No.: 2551-62-4
Purezza:: 99.9%~99.999% Pacchetto:: cilindri dell'acciaio senza cuciture
Altri nomi: Hexafluoroethane Aspetto:: gas liquefatto incolore
Aspetto:: gas liquefatto incolore Volume dei cilindri:: 40L, 50L, o 500L
Qualita Standard: Grado di industriale del grado dell'elettrone Sinonimi: 1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; etano, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Fluo
Applicazione: Attrezzatura di elettronica, trasformatore, liquido di refrigerazione MF:: C2F6
Mw:: 138,01

Gas elettronici Hexafluoroethane CAS 2551-62-4 del refrigerante R116

 

 

Descrizione:

 

I gas elettronici Hexafluoroethane è utilizzato come un etchant versatile nella fabbricazione a semiconduttore. Può essere usato per incisione selettiva dei siliciuri e degli ossidi del metallo contro i loro substrati del metallo ed anche per incidere del diossido di silicio sopra silicio. L'alluminio primario e le industrie manufatturiere a semiconduttore sono gli emettitori principali di hexafluoroethane.

 

Hexafluoroethane è relativamente inerte. La miscela è ininfiammabile e non tossica, sebbene l'asfissia possa accadere a causa di spostamento di ossigeno. Nell'ambito dell'esposizione prolungata a fuoco o al calore intenso i contenitori possono rompersi violentemente e razzo.

 

Hexafluoroethane è chimicamente inerte in molte situazioni, ma può reagire violentemente con i forti agenti riduttori quali i metalli attivi stessi ed i metalli attivi. Può reagire con i forti agenti ossidante o gli agenti ossidanti più deboli nell'ambito degli estremi della temperatura.

 

I vapori possono causare le vertigini o l'asfissia senza avvertire. I vapori da gas liquefatto sono inizialmente più pesanti dell'aria e si spargono lungo terra. Il contatto con gas o gas liquefatto può causare le ustioni, la lesione severa e/o il congelamento. Il fuoco può produrre l'irritazione, corrosivo e/o i gas tossici.

 

Alcuni possono bruciare ma nessuno danno fuoco prontamente. I contenitori possono esplodere una volta riscaldati. I cilindri rotti possono saettare in alto.

 

 

Specifiche:

 

1. Proprietà fisiche

 

Merce

 Hexafluoroethane

Formula molecolare

 R116

CAS nessun

 76-16-4

 

ONU no.

 

2193

 

Classe pericolosa

 2,2

MF:

 

C2F6

 

Cilindrata

 40L, 500L

Peso di riempimento

 

 cilindro riutilizzabile 530kg/500L

 cilindro riutilizzabile 20kg/40L

 

Stoccaggio e trasporto

 

Uso, deposito e trasporto sotto 45C. Deposito nelle aree fresche e ben ventilato. Stia alla larga dal fuoco, il calore, la luce solare e le sostanze infiammabili. Tratti con attenzione quando caricano e scaricando per evitare i danneggiamenti delle bombole a gas e degli accessori.

 

 

2. dati tecnici tipici

 

Purezza, % ≥99.8
Umidità, PPM ≤10
Acidità, PPM ≤1
Residuo del vapore, PPM ≤100
Aspetto Incolore, non torbido
Odore Nessun puzzo sconosciuto

 

 

 

 

 

 

 

 

Peso molecolare 66,1
Punto di ebollizione, °C -24,7
Temperatura critica, °C 113,5
Pressione critica, Mpa 4,58
Calore specifico di liquido, 30°C, [kJ (kg°C)] 1,68
ODP 0
GWP 0,014

 

 

 

 

 

 

 

 

Gas elettronici Hexafluoroethane CAS 2551-62-4 del refrigerante R116

Applicazioni:

 

Tecnologia multifunzionale incisione Nella produzione del semiconduttore e del refrigerante.
Il substrato del metallo

Può essere utilizzato incisione selettiva del metallo di silicio del metallo e dell'ossido di metallo.

Nell'ambito dell'esposizione prolungata a fuoco o al calore intenso i contenitori possono rompersi violentemente e razzo.

 

 

Dettagli di contatto
Wuhan Newradar Special Gas Co.,Ltd

Persona di contatto: vicky Liu

Telefono: +8613667126861

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