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Del gas di UHP ossigeno dei miscugli di gas di specialità O2 e CF4 con il produttore della miscela di Tetrafluoromethane

Certificazione
di buona qualità gas rari per le vendite
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Il buon prodotto, la grande comunicazione, Sara era grande ed utile!

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Del gas di UHP ossigeno dei miscugli di gas di specialità O2 e CF4 con il produttore della miscela di Tetrafluoromethane

Porcellana Del gas di UHP ossigeno dei miscugli di gas di specialità O2 e CF4 con il produttore della miscela di Tetrafluoromethane fornitore

Grande immagine :  Del gas di UHP ossigeno dei miscugli di gas di specialità O2 e CF4 con il produttore della miscela di Tetrafluoromethane

Dettagli:

Luogo di origine: La Cina
Marca: newradar / accept OME
Certificazione: ISO/DOT/GB
Numero di modello: N / A

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 1000 litri
Prezzo: negotiation
Imballaggi particolari: 10kg, 40kg o 50kg hanno imballato nella bombola a gas qualificata o hanno imballato secondo le richi
Tempi di consegna: 15-25 giorni lavorativi dopo hanno ricevuto il vostro pagamento
Termini di pagamento: L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione: 3,00 metri cubici al mese
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Descrizione di prodotto dettagliata
Applicazione: processo di litografia 248nm e misto con alogeno facendo uso dei gas misti CF4: tetrafluoromethane
ONU NESSUN: 1982 ossigeno: O2
Pacchetto:: cilindri dell'acciaio senza cuciture Altri nomi: Miscela del tetrafluoruro del carbonio dell'ossigeno
Aspetto:: GAS INCOLORE Volume dei cilindri:: 10L, 25L, 40L o 50L
Qualita Standard: Grado del grado dell'elettrone Tossico: Non tossico

 

Del gas di UHP ossigeno dei miscugli di gas di specialità O2 e CF4 con il produttore della miscela di Tetrafluoromethane

 

Descrizione:

 

Etch.control anisotropo. Altri idrocarburi alogenati come pure la presenza di aria o di ossigeno, sono nocivi al controllo dei risultati di theTetrafluoride nel controllo superiore del processo, che provoca migliore dimensionale ed il profilo. Un'elevata purezza Carbonor CF2conditions, il fluoro che i radicali liberi sono sotto forma di tetrafluoruro di CF3Carbon è tipicamente relativamente inerte in condizioni normali ed è una sostanza asfissiante. Nell'ambito dei plasmaprocesses di rf. Il tetrafluoruro del carbonio è usato con ossigeno per incidere il polisiliconico, il diossido di silicio ed il nitruro di silicio. Il tetrafluoruro del carbonio è una fonte di radicali liberi del fluoruro del carbonio o del fluoro utilizzati varia incissione all'acquaforte del wafer

 

 

Specifiche:

 

1. Proprietà fisiche

 

Componenti importanti
COMPONENTI CONCENTRAZIONE GAMMA
O2 20% 19.9-20.1%
CF4 Equilibrio  

 

 

 

 

 

 

2. dati tecnici tipici (COA)

 

Impurità massime
COMPONENTI CONCENTRAZIONE (PPM)
Anidride carbonica (CO2) <1>
Monossido di carbonio (CO) <1>
Umidità (H2O) <0>
Azoto (N2) <10>
Ossigeno (O2) <5>
THC (come metano) (CH4) <0>
Altri idrocarburi alogenati <1>
Esafluoruro dello zolfo <1>

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Cilindro Specifications* Indice Pressione
Cilindro Opzioni dello sbocco della valvola Libbre Psig ANTIVARI
2 CGA 580 DISS 716 70 2000 139

 

 

 

 

 

Applicazioni:

 

1

 Tetrafluoromethane a volte è usato come refrigerante di bassa temperatura.

 

2

 È usato in microfabbricazione di elettronica da solo o congiuntamente ad ossigeno come plasma etchant per silicio, il diossido di silicio ed il nitruro di silicio.

 

3

 Inoltre ha usi nei rivelatori di neutrone

 

 

Dettagli di contatto
Wuhan Newradar Special Gas Co.,Ltd

Persona di contatto: Bella

Telefono: +8615927358762

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