Informazioni dettagliate

Applicazione:	processo di litografia 248nm e misto con alogeno facendo uso dei gas misti	CF4:	tetrafluoromethane
ONU nessun:	1982	Ossigeno:	O2
Pacchetto::	cilindri d'acciaio senza cuciture	Altri nomi:	Miscela del tetrafluoruro del carbonio dell'ossigeno
Aspetto::	Gas incolore	Volume dei cilindri::	10L, 25L, 40L o 50L
Norma del grado:	Grado del grado dell'elettrone	Sostanza tossica:	Non tossico
Evidenziare:	gas di specialità di liquide dell'aria , gas speciali

Descrizione di prodotto

Del gas di UHP ossigeno dei miscugli di gas di specialità O2 e CF4 con il produttore della miscela di Tetrafluoromethane

Descrizione:

Etch.control anisotropo. Altri idrocarburi alogenati come pure la presenza di aria o di ossigeno, sono nocivi al controllo dei risultati di theTetrafluoride nel controllo superiore del processo, che provoca migliore dimensionale ed il profilo. Un'elevata purezza Carbonor CF2conditions, il fluoro che i radicali liberi sono sotto forma di tetrafluoruro di CF3Carbon è tipicamente relativamente inerte in condizioni normali ed è una sostanza asfissiante. Nell'ambito dei plasmaprocesses di rf. Il tetrafluoruro del carbonio è usato con ossigeno per incidere il polisiliconico, il diossido di silicio ed il nitruro di silicio. Il tetrafluoruro del carbonio è una fonte di radicali liberi del fluoruro del carbonio o del fluoro utilizzati varia incissione all'acquaforte del wafer

Specifiche:

1. Proprietà fisiche

Major Components
COMPONENTI	CONCENTRAZIONE	GAMMA
O2	20%	19.9-20.1%
CF4	Equilibrio

2. dati tecnici tipici (COA)

Impurità massime
COMPONENTI	CONCENTRAZIONE (PPM)
Anidride carbonica (CO2)	<1>
Monossido di carbonio (CO)	<1>
Umidità (H2O)	<0>
Azoto (N2)	<10>
Ossigeno (O2)	<5>
THC (come metano) (CH4)	<0>
Altri idrocarburi alogenati	<1>
Esafluoruro dello zolfo	<1>

Cilindro Specifications*			Indice	Pressione
Cilindro	Opzioni dello sbocco della valvola		Libbre	Psig	ANTIVARI
2	CGA 580	DISS 716	70	2000	139

Applicazioni:

Tetrafluoromethane a volte è usato come refrigerante di bassa temperatura.

È usato in microfabbricazione di elettronica da solo o congiuntamente ad ossigeno come plasma etchant per silicio, il diossido di silicio ed il nitruro di silicio.

Inoltre ha usi nei rivelatori di neutrone

Prodotto Tag:

Luogo di origine:	La Cina
Marca:	Newradar Gas
Certificazione:	ISO/DOT/GB
Numero di modello:	N/A

Quantità di ordine minimo:	1000 litri
Prezzo:	negotiation
Imballaggi particolari:	10kg, 40kg o 50kg imballati nella bombola a gas qualificata o imballati secondo le richieste
Tempi di consegna:	15-25 giorni lavorativi dopo hanno ricevuto il vostro pagamento
Termini di pagamento:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione:	3,00 metri cubici al mese

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