Informazioni dettagliate

Massa molare:	138,01 g.mol−1	Punto di infiammabilità.::	Ininfiammabile
Purezza::	99.9%~99.999%	Aspetto::	Gas liquefatto incolore
ONU NO.:	2193	Norma del grado:	Grado industriale del grado dell'elettrone
Sinonimi:	1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; etano, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Fluo	Applicazione:	Attrezzatura di elettronica, trasformatore, liquido di refrigerazione
Mw::	138,01
Evidenziare:	Gas elettrico , purezza più i gas di specialità

Descrizione di prodotto

Purezza 99,9% gas FC1160 per incisione del diossido di silicio sopra silicio

Descrizione:

Perfluoroethane, anche conosciuto come perfluoroethane, PFC-116 (R-116), formula chimica C2F6, denominazione commerciale Reflube 116, peso molecolare relativo 138,00. Alla temperatura ambiente, il tetrafluoromethane è incolore, inodoro, ininfiammabile, insolubile in gas compressibile dell'acqua, il ℃ del punto di ebollizione -78,2, punto di ebollizione della densità liquida di 1608kg/m3, la temperatura critica di ℃ 19,7, la pressione critica di 2.98MPa.

Specifiche:

1. Proprietà fisiche

Merce	Hexafluoroethane
Formula molecolare	R116
CAS No	76-16-4
ONU no.	2193
Classe pericolosa	2,2
MF:	C2F6
Cilindrata	40L, 500L
Peso di riempimento	cilindro riutilizzabile 530kg/500L cilindro riutilizzabile 20kg/40L
Stoccaggio e trasporto	Uso, deposito e trasporto sotto 45C. Deposito nelle aree fresche e ben ventilato. Stia alla larga dal fuoco, il calore, la luce solare e le sostanze infiammabili. Maniglia con attenzione quando caricano e scaricando per evitare i danneggiamenti delle bombole a gas e degli accessori.

2. dati tecnici tipici

Purezza, %	≥99.8
Umidità, PPM	≤10
Acidità, PPM	≤1
Residuo del vapore, PPM	≤100
Aspetto	Incolore, non torbido
Odore	Nessun puzzo sconosciuto

Peso molecolare	66,1
Punto di ebollizione, °C	-24,7
Temperatura critica, °C	113,5
Pressione critica, Mpa	4,58
Calore specifico di liquido, 30°C, [kJ (kg°C)]	1,68
ODP	0
GWP	0,014

Applicazioni:

Tecnologia d'incisione multifunzionale

Nella produzione incisione a semiconduttore del metallo

Il substrato del metallo

Può essere utilizzato incisione selettiva del metallo di silicio del metallo e dell'ossido di metallo.

Nell'ambito dell'esposizione prolungata da infornare o del calore intenso i contenitori possono rompersi violentemente e razzo.

Prodotto Tag:

Luogo di origine:	La Cina
Marca:	Newradar Gas
Certificazione:	ISO/DOT/GB
Numero di modello:	N/A

Quantità di ordine minimo:	1000 chilogrammi
Prezzo:	Negoziabile
Imballaggi particolari:	imballaggio standard dell'esportazione: ogni cilindro da proteggere da due poli-reti, stanti sul pal
Tempi di consegna:	15-25 giorni lavorativi dopo hanno ricevuto il vostro pagamento
Termini di pagamento:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione:	3,00 tonnellate al mese

L'elevata purezza 99,9% FC1160 intossica il grado industriale del gas liquefatto del grado incolore dell'elettrone

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