Informazioni dettagliate

proprietà fisiche:	la fase solida ha due polimorfi	Densità del vapore::	4,823 (aria = 1)
Grado:	grado di industria	Altri nomi:	1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane
Aspetto::	Gas liquefatto incolore	ONU NO.:	2193
Norma del grado:	Grado industriale del grado dell'elettrone	Sinonimi:	1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; etano, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Fluo
Applicazione:	Attrezzatura di elettronica, trasformatore, liquido di refrigerazione	MF::	C2F6
Mw::	138,01
Evidenziare:	Gas elettrico , purezza più i gas di specialità

Descrizione di prodotto

Purezza 99,9% ONU 2193, gas del fluorocarburo 116 per incisione del diossido di silicio sopra silicio

Descrizione:

CAS: 76-16-4
Nome cinese: hexafluoroethane
Nome inglese: Hexafluoroethane
Alias: R116; perfluoroethane
Formula molecolare: C2F6; CF3CF3
Peso molecolare: 138,0
Punto di fusione: -101 ° C
Densità: densità relativa (acqua = 1) 1,61;
Pressione di vapore:
Solubilità: leggermente sostanza solubile in acqua
Stabilità: stalla
Aspetto e carattere: il gas incolore, inodoro, ininfiammabile, superiore a ℃ 24,3 non può tenere il liquido, installato solitamente in cilindro ad alta pressione

Specifiche:

1. Proprietà fisiche

Merce	Hexafluoroethane
Formula molecolare	R116
CAS No	76-16-4
ONU no.	2193
Classe pericolosa	2,2
MF:	C2F6
Cilindrata	40L, 500L
Peso di riempimento	cilindro riutilizzabile 530kg/500L cilindro riutilizzabile 20kg/40L
Stoccaggio e trasporto	Uso, deposito e trasporto sotto 45C. Deposito nelle aree fresche e ben ventilato. Stia alla larga dal fuoco, il calore, la luce solare e le sostanze infiammabili. Maniglia con attenzione quando caricano e scaricando per evitare i danneggiamenti delle bombole a gas e degli accessori.

2. dati tecnici tipici

Purezza, %	≥99.8
Umidità, PPM	≤10
Acidità, PPM	≤1
Residuo del vapore, PPM	≤100
Aspetto	Incolore, non torbido
Odore	Nessun puzzo sconosciuto

Peso molecolare	66,1
Punto di ebollizione, °C	-24,7
Temperatura critica, °C	113,5
Pressione critica, Mpa	4,58
Calore specifico di liquido, 30°C, [kJ (kg°C)]	1,68
ODP	0
GWP	0,014

Applicazioni:

Tecnologia d'incisione multifunzionale

Nella produzione incisione a semiconduttore del metallo

Il substrato del metallo

Può essere utilizzato incisione selettiva del metallo di silicio del metallo e dell'ossido di metallo.

Nell'ambito dell'esposizione prolungata da infornare o del calore intenso i contenitori possono rompersi violentemente e razzo.

Prodotto Tag:

Luogo di origine:	La Cina
Marca:	Newradar Gas
Certificazione:	ISO/DOT/GB
Numero di modello:	N/A

Quantità di ordine minimo:	1000 chilogrammi
Prezzo:	Negoziabile
Imballaggi particolari:	imballaggio standard dell'esportazione: ogni cilindro da proteggere da due poli-reti, stanti sul pal
Tempi di consegna:	15-25 giorni lavorativi dopo hanno ricevuto il vostro pagamento
Termini di pagamento:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione:	3,00 tonnellate al mese

Grado elettronico di industria di gas del fluorocarburo 116 di ONU 2193 per l'attrezzatura di elettronica

Gas elettrico

purezza più i gas di specialità

Purezza 99,9% ONU 2193, gas del fluorocarburo 116 per incisione del diossido di silicio sopra silicio

Descrizione:

Gas di azoto,

Gas elettrico,

bombola a gas dell'azoto

Idrocarburo alogenato 116 di CAS 76-16-4

Gas elettronici dell'esafluoruro dello zolfo

Gas elettronici del silano SiH4 di elevata purezza

Gas di calibratura del solfuro di idrogeno di H2S

Gas del laser a eccimeri di Ar/F2/He/Ne misto per la lente producendo i laser a eccimeri del laser del xecl

Gas di elettroni di aria dell'equilibrio del gas 100 PPM di calibratura dell'isobutilene

Fluoruro NF3, dell'azoto gas nf3

Medium dielettrico gassoso dei gas di industria dello zolfo del gas elettronico dell'esafluoruro