Informazioni dettagliate

proprietà fisiche:	la fase solida ha due polimorfi	Densità del vapore::	4,823 (aria = 1)
Grado:	grado di industria	Altri nomi:	1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane
Aspetto::	Gas liquefatto incolore	ONU NO.:	2193
Norma del grado:	Grado industriale del grado dell'elettrone	Sinonimi:	1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane; C2F6; etano, hexafluoro-; Ethylhexafluoride; f116; F-116; FC1160; Fluo
Applicazione:	Attrezzatura di elettronica, trasformatore, liquido di refrigerazione	MF::	C2F6
Mw::	138,01
Evidenziare:	Gas elettrico , purezza più i gas di specialità

Descrizione di prodotto

Purezza 99,9% ONU 2193, gas del fluorocarburo 116 per incisione del diossido di silicio sopra silicio

Descrizione:

CAS: 76-16-4
Nome cinese: hexafluoroethane
Nome inglese: Hexafluoroethane
Alias: R116; perfluoroethane
Formula molecolare: C2F6; CF3CF3
Peso molecolare: 138,0
Punto di fusione: -101 ° C
Densità: densità relativa (acqua = 1) 1,61;
Pressione di vapore:
Solubilità: leggermente sostanza solubile in acqua
Stabilità: stalla
Aspetto e carattere: il gas incolore, inodoro, ininfiammabile, superiore a ℃ 24,3 non può tenere il liquido, installato solitamente in cilindro ad alta pressione

Specifiche:

1. Proprietà fisiche

Merce	Hexafluoroethane
Formula molecolare	R116
CAS No	76-16-4
ONU no.	2193
Classe pericolosa	2,2
MF:	C2F6
Cilindrata	40L, 500L
Peso di riempimento	cilindro riutilizzabile 530kg/500L cilindro riutilizzabile 20kg/40L
Stoccaggio e trasporto	Uso, deposito e trasporto sotto 45C. Deposito nelle aree fresche e ben ventilato. Stia alla larga dal fuoco, il calore, la luce solare e le sostanze infiammabili. Maniglia con attenzione quando caricano e scaricando per evitare i danneggiamenti delle bombole a gas e degli accessori.

2. dati tecnici tipici

Purezza, %	≥99.8
Umidità, PPM	≤10
Acidità, PPM	≤1
Residuo del vapore, PPM	≤100
Aspetto	Incolore, non torbido
Odore	Nessun puzzo sconosciuto

Peso molecolare	66,1
Punto di ebollizione, °C	-24,7
Temperatura critica, °C	113,5
Pressione critica, Mpa	4,58
Calore specifico di liquido, 30°C, [kJ (kg°C)]	1,68
ODP	0
GWP	0,014

Applicazioni:

Tecnologia d'incisione multifunzionale

Nella produzione incisione a semiconduttore del metallo

Il substrato del metallo

Può essere utilizzato incisione selettiva del metallo di silicio del metallo e dell'ossido di metallo.

Nell'ambito dell'esposizione prolungata da infornare o del calore intenso i contenitori possono rompersi violentemente e razzo.

Prodotto Tag:

Luogo di origine:	La Cina
Marca:	Newradar Gas
Certificazione:	ISO/DOT/GB
Numero di modello:	N/A

Quantità di ordine minimo:	1000 chilogrammi
Prezzo:	negotiable
Imballaggi particolari:	imballaggio standard dell'esportazione: ogni cilindro da proteggere da due poli-reti, stanti sul pal
Tempi di consegna:	15-25 giorni lavorativi dopo hanno ricevuto il vostro pagamento
Termini di pagamento:	L/C, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione:	3,00 tonnellate al mese

Grado elettronico di industria di gas del fluorocarburo 116 di ONU 2193 per l'attrezzatura di elettronica

Gas elettrico

purezza più i gas di specialità

Purezza 99,9% ONU 2193, gas del fluorocarburo 116 per incisione del diossido di silicio sopra silicio

Descrizione:

Gas di azoto,

Gas elettrico,

bombola a gas dell'azoto

Idrocarburo alogenato 116 di CAS 76-16-4

Gas elettronici dell'esafluoruro dello zolfo

Gas elettronici del silano SiH4 di elevata purezza

Gas di calibratura del solfuro di idrogeno di H2S

Gas del laser a eccimeri di Ar/F2/He/Ne misto per la lente producendo i laser a eccimeri del laser del xecl

Gas di elettroni di aria dell'equilibrio del gas 100 PPM di calibratura dell'isobutilene

Fluoruro NF3, dell'azoto gas nf3

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